真空蒸着の手順について

真空蒸着の手順とは

真空蒸着の手順についてご紹介します。

蒸着材料の加熱

まず、蒸着材料を加熱させます。加熱方法にはいくつかあり、「抵抗加熱蒸着法」や「電子ビーム蒸着法」などがあります。各方法で加熱した材料は、蒸発源から対象物（基板）に向かって飛んで行きます。

基板へ蒸着

この時、チャンバーと呼ばれる蒸着材料や基板が入っている所は、「真空」という、不純物が少ない状態になっているので、通常の空気よりも材料が飛んでいく時に不純物とぶつかる事が少なく、品質を保つことができます。

多層膜の形成

その後、材料は基板に衝突し蓄積されていきます。蒸着の膜は複数の材料をミルフィーユのように重ねていく多層膜が一般的なため、この飛ばす過程を複数回行い、多層膜を形成します。多層膜にすることで様々な機能を付加させることが可能になります。

加熱方法の種類

抵抗加熱蒸着法

ジュール熱を使用して蒸着材料を加熱する方法です。加熱のしくみが簡単なのが特徴です。ボートと呼ばれる凹みのある金属の板などに蒸着材料を入れ加熱するなどを行います。

電子ビーム蒸着法

加速させた電子を蒸着材料にぶつけ加熱させます。電子ビームは、フィラメントや磁石などからなり、抵抗加熱蒸着法よりも複雑ですが、抵抗加熱よりも蒸着する速度を管理しやすいなどのメリットがあります。

蒸着の手順

真空蒸着を行う際の流れです。

1. 蒸着したい膜のレシピを作成します
2. 蒸着したい材料をセットします
3. 膜を付けたい基板をセットします
4. 蒸着材料を加熱し、蒸発させます
5. 蒸発した材料が基板にくっつきます

ちくま精機の真空蒸着

ちくま精機の真空蒸着は、UV領域～IR領域や反射膜、反射防止膜まで様々な膜をご提供しております。

紫外線（UV）

紫外線（UV）とは、人が目で見える光よりも短い波長の光です。紫外線は波長によって、UV-A、UV-B、UV-Cに分けられます。ちくま精機では主にUV-Aのコートを作成しています。

赤外線（IR）

赤外線（IR）とは、人が目で見える光よりも長い波長の光です。赤外線は、波長によって、近赤外線、中赤外線、遠赤外線に分ける事ができます。ちくま精機では、近赤外線、特に通信波長帯と呼ばれる光通信に使用される波長のコートを作成しています。

反射膜

主に金属の材料を使用し、反射率を上げる膜です。日常生活で使用される可視領域を反射させる鏡はもちろん、赤外線（IR）を反射させることも可能です。

反射防止膜

主に、酸化物を使用し、反射を防止する膜です。日常生活で使用されるメガネなどがあります。メガネは、可視領域の反射を防止していますが、紫外線（UV）や赤外線（IR）領域の反射を防止する膜も作成も可能です。

まとめ

蒸着は真空で薄膜を作成する方法の一種です。ちくま精機の真空蒸着は、抵抗加熱蒸着法と電子ビーム蒸着法を行っております。ちくま精機の真空蒸着についての詳細は真空蒸着の設計・試作・量産ページをご覧ください。真空蒸着の概要については 真空蒸着とは のページをご覧ください。

真空蒸着のお困りごとがありましたらお気軽にご相談ください

使用したい材料などがありましたらお気軽にご相談頂ければ、それに対応した加熱方法や膜設計を実施いたします。